为什么在世界市场上占有率这么高呢？
完全是因为这种光刻胶可以应用在制造5n片，别的光刻胶都达不到要求，当然了这种光刻胶也可以用在8纳米，10纳米上，至于以后的15纳米，20纳米更是不用说了
但是一般人可不会用在这么低级的芯片上，因为完全是杀鸡用牛刀，浪费资源。
浪费是可耻的，而且arf光刻胶的价格可不便宜。
想想也是，能处于垄断地位的东西能便宜得了吗？
就是因为能生产出来这么优秀的光刻胶，使得岛国在芯片界的地位非常高，就犹如as在芯片界的地位。
都是处于主宰整个行业的地位。
既然张星辰想要进军芯片界，就不可能放过光刻胶这一个东西，毕竟现在星辰公司已经把光刻胶都给攻克了，怎么会放过光刻胶呢。
“这些年你们也是赚了不少钱，小日子过得不错嘛。”张星辰喃喃地说道。
光刻胶是一种液体材料，里边包含着很多的东西，比如感光剂、比如树脂、比如溶剂等等，很多的东西按照一定的比例混合在一起，就形成了光刻胶。
而且光刻胶对于光十分敏感。
在光刻胶之中，树脂的作用就是起到胶水的作用，就是把各种材料都粘合到一起，这样成为了一个整体，使得光刻胶具备了一定的化学性质和机械性能。
感光剂，那是顾名思义，这是一种化合物，对于光非常敏感，也就是光活性非常强，感受到光照的时候就会发生化学反应。
在光刻胶之中中，感光剂和树脂的比例几乎就是18 比上1。
不同光刻胶的比例是不一样的，但是大致数字是这个，也许有些许差别，但是不会太大，在允许出现的范围之内。
光刻胶之中还含有溶剂，就相当于水一样，包容万物，这是个主体材料。
溶剂使得光刻胶具备了一定的流动性。
至于其他的添加剂，可以使光刻胶具备某些特殊的化学性质。
其实光刻胶不仅仅用在制造芯片上，在其他的行业上也是应用广泛，比如说微机电系统上，比如说太阳能光伏上，这些都用得着光刻胶。
其实光刻胶有非常多的种类。
根据应用不同，我们可以把它分为三大类。
一种是面板光刻胶，一种是pcb光刻胶，另一种就是半导体光刻胶。
根据曝光的波长来分呢，我们可以把它分为三种光刻胶。
波长在15纳米左右的。我们称之为极紫外光刻胶，如果曝光的波长在160纳米到270纳米之间，我们把它称作为深紫外光刻胶，如果曝光的波长在290纳米到460纳米之间，称作紫外光刻胶。
除此之外，还有原子光刻胶，分子束光刻胶，离子束光刻胶、x射线光刻胶、分子光刻胶等等，但是从整体上来说，我们把光刻胶分为正光刻胶和负光刻胶。